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http://hdl.handle.net/20.500.12390/1842


Título: Implementación de un sistema de medición de resistividad eléctrica en películas delgadas semiconductoras por el método de Van der Pauw
Autor(es): Conde Mendoza, Luis Angel 
Asesor(es): Weingärtner, Roland
Resumen: La resistividad eléctrica es una propiedad física intrínseca e independiente del tamaño o forma de un material, que nos da información acerca de cómo se comporta el material al paso de la corriente eléctrica. Por el valor de la resistividad de un material, se le puede clasificar como conductor, semiconductor o aislante.[1] En la presente tesis se realiza el estudio de la resistividad eléctrica en los semiconductores, los métodos de medición de resistividad, los factores de corrección que se deben tener en cuenta para una medición m´as precisa y los detalles de la implementación de un sistema de medición de resistividad por el método de Van der Pauw. El método de Van der Pauw se puede utilizar para medir la resistividad de materiales en forma de películas delgadas sin importar la forma del material, consiste en hacer fluir una corriente constante por dos puntos en la periferia y se mide el voltaje en otros dos puntos. Con los datos obtenidos se resuelve la ecuación de Van der Pauw y se obtiene la resistividad. Finalmente, se presentan las resultadas de las medidas de resistividad para muestras cuadradas de silicio de alto dopaje, y además se hace un estudio de los resultados obtenidos cuando la medición se hace en contactos sobre el área superficial de la muestra, incumpliendo la condición de usar contactos en la periferia, y los efectos que esto conlleva.
Tema: Semiconductores;Películas delgadas
Editorial: Pontificia Universidad Católica del Perú
Fecha de publicación: 2017
Financiamiento: CONV-000026-2015-FONDECYT-DE 
Tipo de publicación: info:eu-repo/semantics/masterThesis
Identificador Handle: http://hdl.handle.net/20.500.12390/1842
Recurso relacionado: http://hdl.handle.net/20.500.12404/8686
Nivel de acceso: info:eu-repo/semantics/openAccess
Colección:2.2 Estudios de licenciatura y maestría

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marcado en 04-oct-2022

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