Publicación:
Estudio de la influencia de la variación del flujo de acetileno y del voltaje de polarización del sustrato sobre el estrés interno de películas Ti-DLC

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Fecha
2018
Autores
Acosta Alfaro, Luis Jarol
Título de la revista
Revista ISSN
Título del volumen
Editor
Universidad Nacional de Ingeniería
Proyectos de investigación
Unidades organizativas
Número de la revista
Abstracto
En esta tesis presentamos los estudios realizados sobre el estrés interno de películas delgadas titanio-carbón tipo diamante (titanium-diamond like carbon), producidas por la técnica magnetron sputtering, sobre sustratos de obleas de silicio en un ambiente controlado de gases de argón y acetileno. El estrés interno fue estudiado en función de la tasa variable del gas acetileno y del voltaje de polarización del sustrato. Para la determinación del estrés de las películas se construyó un sistema óptico capaz de medir la variación de curvatura de obleas de silicio antes y después de la deposición. Para la caracterización de la composición y estructura de las películas se han utilizado las técnicas de Espectroscopía de Electrones Auger y Espectroscopía Raman. Para las medidas de dureza de las películas se utilizó la técnica de Nanoindentación. Los resultados experimentales muestran que el estrés interno de las películas es compresivo en el rango de flujo de acetileno y voltaje de polarización del sustrato estudiado. El estrés compresivo disminuye para un flujo variable del gas acetileno, por otro lado el estrés compresivo aumenta con el voltaje de bias aplicado. Estos resultados son entendidos por los cambios en la composición y estructura química de las películas Ti-DLC.
Descripción
Palabras clave
Técnica Magnetron Sputtering
Citación