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Síntesis y caracterización de películas delgadas de nitruro de aluminio hidrogenado (AlN:H)

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dc.contributor.author Espinoza Monsalve, Sandro Renato es_PE
dc.date.accessioned 2024-05-30T23:13:38Z
dc.date.available 2024-05-30T23:13:38Z
dc.date.issued 2018
dc.description.abstract El AlN:H es un material prometedor para la pasivación de superficie en celdas solares de silicio con el fin de mejorar su eficiencia de conversión de potencia. La pasivación superficial es la reducción de la tasa de recombinación de superficie de los portadores de carga foto-generados (electrones y agujeros). Con el fin de obtener una mejor comprensión de AlN:H como una capa de pasivación, es importante investigar previamente las propiedades estructurales y morfológicas de diferentes películas delgadas AlN:H. Esta tesis investiga la influencia del hidrógeno en las propiedades estructurales y morfológicas de las películas delgadas de nitruro de aluminio hidrogenado (AlN:H) de ~ 100 nm de espesor. Para lograr este objetivo, las muestras se produjeron por pulverización reactiva en c-Si de tipo p (CZ, 100, dopado con boro, 10 – 20 Ωcm) bajo tres condiciones diferentes de flujo de hidrógeno y dos temperaturas del sustrato diferentes durante el proceso de deposición. La caracterización y análisis de las películas delgadas depositadas se realizó mediante espectroscopia de rayos X de energía dispersiva (EDX), espectroscopia de infrarrojos por transformada de Fourier (FTIR), espectroscopia de emisión óptica de descarga luminiscente (GDOES) para análisis de composición y por medio de mediciones de difracción de rayos X (XRD) y reflectometría de rayos X (XRR) para análisis estructurales y morfológicos. Este trabajo indica que el contenido de hidrógeno en la película delgada depositada produce algunos cambios morfológicos y estructurales en las películas delgadas AlN. Todas las películas delgadas depositadas tienen la estructura cristalina de wurtzita hexagonal. Sin embargo, las mediciones de XRD muestran una disminución en la orientación (002) y un aumento de la orientación de la mezcla entre (100) y (110), con el aumento del flujo de H2. Esta variación implica que el eje c de la película cambia de perpendicular (002) a paralelo (100, 110) con respecto a la superficie del sustrato. El análisis XRR revela que un aumento del flujo de H2 reduce la rugosidad de la película. Adicionalmente, a través de GDOES se confirma la presencia de hidrógeno en todo el volumen de la película delgada con una tendencia a difundirse hacia las superficies.
dc.description.sponsorship Fondo Nacional de Desarrollo Científico y Tecnológico - Fondecyt
dc.identifier.uri https://hdl.handle.net/20.500.12390/1566
dc.language.iso spa
dc.publisher Pontificia Universidad Católica del Perú
dc.rights info:eu-repo/semantics/openAccess
dc.rights.uri http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/2.5/pe/
dc.subject Películas delgadas
dc.subject Hidrógeno es_PE
dc.subject.ocde https://purl.org/pe-repo/ocde/ford#2.05.01
dc.title Síntesis y caracterización de películas delgadas de nitruro de aluminio hidrogenado (AlN:H)
dc.type info:eu-repo/semantics/masterThesis
dspace.entity.type Publication
oairecerif.author.affiliation #PLACEHOLDER_PARENT_METADATA_VALUE#
thesis.degree.discipline Ingeniería y Ciencia de los Materiales
thesis.degree.grantor Pontificia Universidad Católica del Perú. Escuela de Posgrado
thesis.degree.name Magíster en Ingeniería y Ciencia de los Materiales
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