Structural, luminescence and Judd-Ofelt analysis to study the influence of post-annealing treatment on the AlN:Tb thin films prepared by radio frequency magnetron sputtering

Tucto Salinas, Karem

Publicación:

Structural, luminescence and Judd-Ofelt analysis to study the influence of post-annealing treatment on the AlN:Tb thin films prepared by radio frequency magnetron sputtering

dc.contributor.author	Tucto Salinas, Karem	es_PE
dc.date.accessioned	2024-05-30T23:13:38Z
dc.date.available	2024-05-30T23:13:38Z
dc.date.issued	2016-02
dc.description.abstract	En la presente tesis se investiga la influencia del tratamiento térmico en la probabilidad de emisión espontánea, el tiempo de vida radiativa, la composición y la estructura de películas delgadas de nitruro de aluminio dopadas con terbio depositadas sobre substratos de silicio por la técnica de pulverización catódica de radiofrecuencia. La tesis tiene por objetivo aplicar el análisis de Judd-Ofelt usando el espectro de emisión. Sepropone un método que utiliza la intensidad de las bandas de transición del espectro de emisión y las ecuaciones de Judd-Ofelt para calcular las propiedades espectrales: tiempo de vida radiativa, tasa de los canales de transición y probabilidad de emisión espontánea. Usando el software Wolfram Mathematica 9.0 se implementa un programa con el método propuesto. Las películas se trataron térmicamente a 500, 750, 900 y 1000 °C. Se investigaron dos técnicas del tratamiento térmico: Tratamiento térmico rápido y Horno tubular de vidrio de cuarzo. Con el tratamiento térmico rápido se usaron dos tipos de calentamiento: calentamiento directo a la temperatura de tratamiento térmico, y calentamiento sucesivo de la película desde la menor hasta la mayor temperatura. El análisis estructural de las películas fue realizada con difracción de rayos X. A nivel de superficie se caracterizó la estructura y la morfología con las técnicas de difracción de electrones reflejados de alta energía y microscopía electrónica de barrido. La luminiscencia fue medida con la técnica de catodoluminiscencia. Las propiedades espectrales fueron calculadas usando el método propuesto. La intensidad de luz emitida se incrementó y luego decayó con la temperatura de tratamiento. La relación entre la intensidad de emisión, la estructura, composición y los parámetros de Judd-Ofelt son mostrados mediante gráficas y tablas. Los resultados obtenidos muestran una mayor activación de los iones de terbio en las películas calentadas directamente a 750°C usando el tratamiento térmico rápido.
dc.description.sponsorship	Fondo Nacional de Desarrollo Científico y Tecnológico - Fondecyt
dc.identifier.uri	https://hdl.handle.net/20.500.12390/304
dc.language.iso	eng
dc.publisher	Technische Universitat ILMENAU
dc.rights	info:eu-repo/semantics/openAccess
dc.rights.uri	http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/2.5/pe/
dc.subject	Espectrómetro
dc.subject	Análisis espectroquímico	es_PE
dc.subject.ocde	https://purl.org/pe-repo/ocde/ford#2.05.01
dc.title	Structural, luminescence and Judd-Ofelt analysis to study the influence of post-annealing treatment on the AlN:Tb thin films prepared by radio frequency magnetron sputtering
dc.type	info:eu-repo/semantics/masterThesis
dspace.entity.type	Publication
oairecerif.author.affiliation	#PLACEHOLDER_PARENT_METADATA_VALUE#
thesis.degree.discipline	Ingeniería de los Materiales
thesis.degree.grantor	Pontificia Universidad Católica del Perú. Escuela de Posgrado
thesis.degree.name	Magíster en Ingeniería y Ciencia de los Materiales